Diamanyetik Kompozit Kaynak Altlığın Tasarımı

ARICI R.

Patent, BÖLÜM C Kimya; Metalürji, Standart Tescil, 2020

• Fikri Mülkiyet: Patent
• Başvuru Yapılan Ülke/Kuruluş:
• Başvuru Tarihi: 1.01.2020